µ¿°æ ±¹Á¦ ¸¶ÀÌÅ©·Î¸Ó½Å ¹Ú¶÷ȸ(*MEMS*Exhibition Micromachine)
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2024³â 12¿ù 28ÀÏ Åä¿äÀÏ  
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µ¿°æ ±¹Á¦ ¸¶ÀÌÅ©·Î¸Ó½Å ¹Ú¶÷ȸ(*MEMS*Exhibition Micromachine)°¡ 2009³â07¿ù28ÀÏ ºÎÅÍ 07¿ù30ÀÏ ±îÁö 3ÀÏ°£ ÀϺ» µ¿°æ¿¡¼­ °³ÃÖ µË´Ï´Ù. °ü·Ã¾÷ü ¿©·¯ºÐÀÇ ¸¹Àº Âü°üÀ» ¹Ù¶ø´Ï´Ù.
Çؿܹڶ÷ȸ Àü¹®¾÷üÀÎ (ÁÖ)IEB¹Ú¶÷ȸÅõ¾î¸¦ ÅëÇØ ¸¶ÀÌÅ©·Î¸Ó½Å °ü·Ã »ê¾÷ÀÇ ºü¸£°í °Å´ëÇÑ ½ÃÀåÀ» ÆľÇÇÏ°í, ÃÖ±Ù »ê¾÷µ¿Ç⠺м®, ȹ±âÀû ¾ÆÀÌÅÛ Ã¢Ãâ, ½Å ¹ÙÀÌ¾î °³Ã´, Á¦Ç° ÇÁ·Î¸ð¼Ç, °íºÎ°¡ °¡Ä¡ »ç¾÷âÃâÀÇ À¯ÀÏÇÑ ±¹Á¦Àû ±âȸ¸¦ È°¿ëÇØ º¸½Ã±â ¹Ù¶ø´Ï´Ù.


     
°³ÃֱⰣ 2009.07.28 - 2009.07.30
°³ÃÖÀå¼Ò Tokyo Big Sight, East Hall
Àü½ÃÇ°¸ñ MEMS Process Equipment
Thin film formation (vapor deposition, sputtering, CVD, plating)
Exposure system, lithography, Resist processing, Etching, Wafer bonding, Dicing,
Wire/Die bonding, Packaging, Microforming (injection, hot embossing),
Other manufacturing equipment

*Material
Piezoelectric thin film (ZnO, SIN, PTZ), Resist material, Adhesive material, Protectection material, Nanotube, Sapphire, Polymer, Ceramics, LTCC substrate,
Glass substrate, SiC, Magnetic material, Ferroelectric substance

*Nanoimprint Technology
Micro & nano mold, Nanoimprint manufacturing equipment

*Modeling Software
Design tool, Simulation software, Analysis software for CAD & CAE

*Nano machining, Microfabrication Techniques
Ultra-precision nano machining techniques, Ultra-precision machining, microfabrication, Surface micromachining, Fine drilling process,
Micro cutting process, Laser beam processing, Focused ion beam system
Micro-electro-discharge machining, Ultrasonic wave machining etc.

*Biotechnology, Medical Application
MEMS application for medical treatment & diagnosis, DDS, Nano-capsule
DNA & RNA tip, Micro reactor, Micro flow guide etc.

*Evaluation & Testing Equipment
Mask/reticle defect inspector, package inspector, Surface profiler, roughness meter
Scanning electron microscope, Film thickness measurement system, Microscope, Optical microscope, Electron microscope, Probe microscope, Auger electron spectroscope, Leak detector, Electrostatic ionizer, Gas Measuring or analyzing,
Analysis and measurement system

*MEMS device
Optical MEMS (mirror, switch, scanner etc.), RF-MEMS (switch, oscillator, filter etc.)
MEMS physical sensor (acceleration sensor,rate sensor,pressure sensor, gas sensor, temperature sensor), Micro fluidics (micro flow guide, micro reactor etc.)
MEMS actuator (bulb, pump), Power MEMS (fuel cell, micro-power generator etc.)
Bio/Chemical MEMS (DNA/RNA tip, chemical inspection etc.)
Highly integrated and complex MEMS (CMOS/MEMS, LSI/MEMS integration)

*MEMS Foundry Service
Design simulation, Prototyping, Product development, Mass production,
Other foundry service, Patterning, Film formation, Laser beam processing, Plating

*MEMS Application
Product (microphone, display etc.), Microrobot, Microfactory etc. Sensor network, Energy harvesting, Others
°³ÃÖ±Ô¸ð 358°³ ¾÷ü Âü°¡, 14,075 ¿©¸í Âü°ü
ȨÆäÀÌÁö http://www.micromachine.jp/en/index.html#sean02
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ÀϹݼ®¿Õº¹Ç×°ø·á(ÀüÀﺸÇè·á, °øÇ×¼¼(ÇöÁö°øÇ×¼¼), Ãâ±¹¼¼, Ç×°øTAX), ÇØ¿Ü¿©ÇàÀÚº¸Çè·á, È£ÅÚ¼÷¹Ú·á(2ÀÎ1½Ç ±âÁØ/Á¶½ÄÆ÷ÇÔ), ÀÏÁ¤»óÀÇ ½Äºñ ¹× Àü¿ëÂ÷·®, ÇöÁö¾È³»¿ø °æºñ, ÀÔÀå·á. **Àü½ÃÀåÀÔÀå±Ç, ÇöÁö°¡À̵å/±â»çÆÁ Æ÷ÇÔ** **ÀÏüÀÇÇöÁöÃß°¡ºñ¿ë¾øÀ½**
ºÒÆ÷ÇÔ³»¿ª Àü½Ãȸ Âü°üÀÏ Á߽ĺñ, °³Àΰæºñ, µ¶½Ç»ç¿ë·á
¸¶°¨ÀÏÀÚ ¡á »ó´ã¹®ÀÇ ´ã´çÀںв² ¹®ÀÇ ºÎŹµå¸³´Ï´Ù. (TEL:02-732-5688)
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* °¢±¹ºñÀÚºñ¿ë ¹× °³º°ÀÏÁ¤ »óÇ° ¹ÌÀû¿ë µÇ¸ç, À¯·ùÇÒÁõ·á ¹× Á¦¼¼°ø°ú±ÝÀº

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* ÀÚ¼¼ÇÑ »çÇ×Àº ȨÆäÀÌÁö¿¡¼­ È®Àιٶø´Ï´Ù https://www.iebtour.com

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¿Â¶óÀÎ ¿¹¾à ½Åû ¶Ç´Â ÇÏ´ÜÀÇ Æѽº ½Åû¼­¸¦ Ŭ¸¯ÇÏ¿© ÀÛ¼º ÈÄ
fax: 02)732-5668 ¹× iebtour@iebtour.com·Î º¸³»ÁÖ¼¼¿ä.
½Åû±Ý(50¸¸¿ø/À¯·´, ¹ÌÁÖ:100¸¸¿ø)Àº ÇØ´ç°èÁ·ΠÀÔ±ÝÇÏ¿© Áֽðí
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±¹¹ÎÀºÇà : 813001-04-002920 / ¿¹±ÝÁÖ : (ÁÖ)¾ÆÀÌÀ̺ñ¹Ú¶÷ȸÅõ¾î
*ÃâÀå Ç°À§ °áÀç½Ã ¼­µÑ·¯ Áֽñ⠹ٶø´Ï´Ù.

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   µû¶ó Ãë¼Ò¼ö¼ö·á°¡ ºÎ°úµË´Ï´Ù.
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   º¯°æÀ» ¿øÇϽø頠¹Ýµå½Ã ¿¹¾à´ã´çÀÚ¿¡°Ô ¿¬¶ôÇÏ¿© Áֽñ⠹ٶø´Ï´Ù.
- Ưº°¾à°ü Àû¿ëÀÇ °æ¿ì, Ç¥Áؾà°üº¸´Ù ³ôÀº Ãë¼Ò¼ö¼ö·á°¡ ºÎ°úµÉ ¼ö ÀÖÀ¸´Ï Ãë¼Ò¼ö¼ö·á
  ºÎ°ú ¼¼ºÎ±âÁØÀ» ¹Ýµå½Ã È®Àιٶø´Ï´Ù.

1. ¿©Çà Ãë¼Ò¼ö¼ö·á ºÎ°ú±âÁØ(±¹¿Ü¿©Çà Ç¥Áؾà°ü)
  °¡. ¿©Çà°³½Ã 30ÀÏÀü(~30)±îÁö Å뺸½Ã: °è¾à±Ýȯ±Þ
  ³ª. ¿©Çà°³½Ã 20ÀÏÀü(29~20)±îÁö Å뺸½Ã: »óÇ°°¡°ÝÀÇ 10% ¹è»ó
  ´Ù. ¿©Çà°³½Ã 10ÀÏÀü(19~10)±îÁö Å뺸½Ã: »óÇ°°¡°ÝÀÇ 15% ¹è»ó
  ¶ó. ¿©Çà°³½Ã 08ÀÏÀü(09~08)±îÁö Å뺸½Ã: »óÇ°°¡°ÝÀÇ 20% ¹è»ó
  ¸¶. ¿©Çà°³½Ã 01ÀÏÀü(07~01)±îÁö Å뺸½Ã: »óÇ°°¡°ÝÀÇ 30% ¹è»ó
  ¹Ù. ¿©Çà´çÀÏ Å뺸½Ã: »óÇ°°¡°ÝÀÇ 50% ¹è»ó

2. ÃÖ¼ÒÃâ¹ßÀοø ±âÁØ°ú ¹ÌÃæÁ· ½Ã ¿©Çà°è¾àÇØÁ¦ ¹× ¹è»ó ±ÔÁ¤

* º» ¿©Çà»óÇ°ÀÇ ÃÖ¼ÒÃâ¹ßÀοø ±âÁØÀº 8¸íÀ̸ç, ¹ÌÃæÁ· ½Ã ¿©ÇàÇ¥Áؾà°ü Á¦9Á¶¿¡ µû¶ó
  ¿©ÇàÃâ¹ß 7ÀÏÀü±îÁö ¿©Çà°è¾àÀ» ÀϹæÀûÀ¸·Î ÇØÁ¦ÇÏ°í ¼ÒºñÀÚ¿¡°Ô Å뺸ÇÒ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.

* ÃÖ¼ÒÃâ¹ßÀοø ¹ÌÃæÁ·¿¡ µû¸¥ ¿©Çà°è¾à Ãë¼Ò Å뺸 ½Ã

  °¡. ¿©ÇàÃâ¹ß 7ÀÏÀü ( ~7)±îÁö ÅëÁö½Ã : °è¾à±Ý¸¸ ȯ±Þ

  ³ª. ¿©ÇàÃâ¹ß 1ÀÏÀü (6~1)±îÁö ÅëÁö½Ã : ¿©Çà¿ä±ÝÀÇ 30% ¹è»ó

  ´Ù. ¿©ÇàÃâ¹ß ´çÀÏ ÅëÁö ½Ã : ¿©Çà¿ä±ÝÀÇ 50% ¹è»ó

  Çؿܹڶ÷ȸ Á¤º¸ ¿À·ù·Î ±âÀçµÈ »çÇ׿¡ ÀÎÇÑ Á÷¡¤°£Á¢ÀûÀÎ ÇÇÇØ¿¡ ´ëÇØ ÀÏüÀÇ

  Ã¥ÀÓÁöÁö ¾ÊÀ½À» ¾Ë·Áµå¸³´Ï´Ù. Çؿܹڶ÷ȸ ÁÖÃÖÃøÀÇ »çÁ¤¿¡ µû¶ó

  °³ÃÖÀÏÀÚ, °³ÃÖÀå¼Ò, °³ÃÖ¿©ºÎ°¡ ¿¹°í¾øÀÌ º¯µ¿(Ãë¼Ò)µÉ ¼ö ÀÖÀ¸¹Ç·Î

  ¹Ýµå½Ã (°³º°·Î ÁغñÇϽô ºÐ) Àü½Ãȸ Âü°¡ ¹× Âü°ü Àü¿¡ ÁÖÃÖÃø¿¡

  ÀüÈ­, ¸ÞÀÏ, ȨÆäÀÌÁö»ó ²À ÀçÈ®ÀÎ ºÎŹµå¸³´Ï´Ù.

  °í°´´Ô ¹× °í°´»ç¿¡ ³ë·ÂÇÏ°í ¹ßÀüÇÏ´Â(ÁÖ)IEB¹Ú¶÷ȸÅõ¾î°¡ µÇ°Ú½À´Ï´Ù.

ÇØ¿Ü
¿©ÇàÀÚº¸Çè

1) º¸Çè Á¾·ù: ½Ç¼Õ º¸Çè

 ÀÇ·áºñ¸¦ ½Ç¼Õ º¸»óÇÏ´Â º¸Çè¿¡ ´Ù¼ö °¡ÀÔµÇ¾î °¢ º¸Çè°è¾à¿¡¼­ º¸ÀåÇÏ´Â ±Ý¾×ÀÇ ÇÕ°è°¡
 Áö±Þº¸Çè±Ý(ÀÇ·áºñ)À» ÃÊ°úÇÏ¿´À» °æ¿ì º¸Çè±ÝÀº °è¾àº°·Î ºñ·ÊºÐ´ãÇÏ¿© Áö±ÞµÇ¸ç,
 Áߺ¹ Áö±ÞºÒ°¡ÇÕ´Ï´Ù.

2) º¸Çè °¡ÀÔ ´ë»óÀÚ (¸¸ 99¼¼ ÀÌÇÏ º¸Çè°¡ÀÔ°¡´É/100¼¼ ÀÌ»ó º¸Çè°¡ÀÔºÒ°¡ *Ãâ¹ßÀÏ ±âÁØ)

  °¡.1¾ï¿ø ÀÌ»ó   : ¸¸14¼¼ ÀÌ»ó ~ ¸¸79¼¼ ÀÌÇÏ

  ³ª.2¾ï¿ø ÀÌÇÏ   : ¸¸14¼¼ ¹Ì¸¸(´Ü »ç¸Áº¸Àå±Ý °¡ÀÔ ºÒ°¡)

  ´Ù.5õ¸¸¿ø ÀÌÇÏ: ¸¸80¼¼ ÀÌ»ó ~ ¸¸99¼¼ ÀÌÇÏ

3) 99¼¼  ÀÌ»óÀÇ °æ¿ì °³º°ÀûÀ¸·Î º¸ÇèÀ» °¡ÀÔÇÏ¼Å¾ß ÇÕ´Ï´Ù. (´ç»ç °¡ÀÔºÒ°¡)
 ´Ü, ¿©ÇàÀÚ º¸ÇèÀº Áúº´À¸·Î ÀÎÇÑ »ç¸ÁÀº ÇØ´ç»çÇ× ¾øÀ¸¸ç, °í°´ ºÎÁÖÀÇ·Î ÀÎÇÑ ºÐ½Ç, ¹æÄ¡´Â Á¶°Ç¿¡¼­ ¿¹¿ÜµÊ, ¶ÇÇÑ ¿©±Ç,Ç×°ø±Ç,±³ÅëÆнº,ÅëÈ­,À¯°¡Áõ±Ç,½Å¿ëÄ«µå µî ÀϺΠǰ¸ñÀº º¸Çè Àû¿ë Á¦¿Ü µË´Ï´Ù.ÈÞ´ëÇ° µµ³­½Ã¿¡´Â ÇöÁö °æÂû¼­ÀÇ È®Àμ­¸¦ ¹Þ¾Æ¿À¼Å¾ß ÇÕ´Ï´Ù.

ÇØ¿Ü¿©Çà
¾ÈÀüÁ¤º¸
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* ÇØ¿Ü¿©Çà ¾ÈÀüÁ¤º¸ ¾È³»

¿Ü±³Åë»óºÎ¿¡¼­´Â [¿©Çà°æº¸Á¦µµ]¸¦ ¿î¿µÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç, (ÁÖ)¾ÆÀÌÀ̺ñ¹Ú¶÷ȸÅõ¾î´Â °í°´´ÔÀÇ ¾ÈÀüÇÑ ÇØ¿Ü¿©ÇàÀ» À§ÇÏ¿© ÀÌ¿¡ ´ëÇÏ¿© ¾È³»¸¦ ÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.
¿©Çà°æº¸´Ü°è´Â ¿©ÇàÀ¯ÀÇ/ÀÚÁ¦/Á¦ÇÑ/±ÝÁö 4°¡Áö ´Ü°è·Î ±¸ºÐµÇ¸ç, ¿Ü±³Åë»óºÎ¿¡¼­
»ó½Ã·Î Á¶Á¤ÇÏ°í ÀÖ»ç¿À´Ï, ¹Ýµå½Ã Ãâ±¹ Àü ¿©Çà¸ñÀûÁöÀÇ(±¹°¡ ¹× Áö¿ª) ¾ÈÀüÁ¤º¸¸¦
È®ÀÎÇϽðí [¿Ü±³Åë»óºÎÀÇ ±Ç°í]¸¦ µû¶óÁֽñ⠹ٶø´Ï´Ù. 

* ´Ü°èº° ±¹°¡ÁöÁ¤ ÇöȲ ¹Ù·Î°¡±â ->https://www.0404.go.kr

 

»ç¾÷ÀÚ¹øÈ£: 104-81-85241, °ü±¤»ç¾÷ÀÚ¹øÈ£: 2021-000001, Åë½ÅÆǸž÷½Å°íÁõ: 2021-¼­¿ïµµºÀ-0074, ±¹Á¦Ç×°ø¿î¼ÛÇùȸ(IATA).
ÀúÀ۱ǵî·Ï Á¦C-2007-011810È£. ¿©Çà°øÁ¦º¸Çè: 1¾ï¿ø. (ÁÖ)IEB¹Ú¶÷ȸÅõ¾î(IEB-TOUR:www.iebtour.com)
¼­¿ï½Ã µµºÀ±¸ ¸¶µé·Î11±æ 57, 802È£(⵿,EQºôµù) (¿ì:01414).»ç¾÷ÀÚ Á¤º¸ È®ÀÎ
T:02)732-5688. F:02)732-5668.Copyright¨Ï 2003-2022 (ÁÖ)¾ÆÀÌÀ̺ñ¹Ú¶÷ȸÅõ¾î. All rights reserved.